AMC空氣分子污染物監測證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響，對很多微量污染物尤為敏感，比如氨氣或者酸性氣體都會給半導體生產帶來*的危害，盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術的發展，已經減少了長時間持續實時監測，而實際上空氣分子污染（AMC）的實時測量對產品質量的好壞至關重要。

AMC空氣分子污染物監測系統將增加半導體器件阻抗一致性、保證更長的過濾器壽命、減少生產過程的停工時間。

AMC空氣分析污染物監測獵戶座 3100S 系統: 完善的空氣分子污染（AMC）監測實時監測空氣分子污染（AMC）對于半導體生產過程尤為重要?？焖俦O測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業要求之一。