半導體潔凈室氣體分析通過污染物源頭控制、傳播控制，實時監控污染物濃度并結合多級過濾器以及新風系統來實現，持久監測AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩定生產、預防過濾器突發性壽命減少等。

激光光聲光譜多氣體分析儀集成了高精度高選擇性可調諧可控光譜的半導體激光器光源，和寬動態量程的懸臂梁增強型光聲光譜技術。零背景噪聲技術提供了連續幾個月不需重復校準的高穩定性，這一特性使得LP1是需要ppb、ppt痕量級濃度測量要求工況的理想選擇。

EDK 6900P系列TDL激光微量氣體分析儀提供了高精度、低檢測限的解決方案，儀器具有對被測氣體高準確度選擇性進行非接觸式測量、免標定、低成本、易操作等特點。

MPS110多點氣體采樣器可以自由擴展氣體采樣 點，從 8 通道到 64 通道，儀器可以適用于 微小流量氣體采樣和高溫氣體工況。

紫外硫化氫分析儀 LT160UV堅固實用精致的*設計，基于紫外熒光吸收光度法，主要包括分析與計算系統、顯示及信號傳輸系統，可提供線性、無干擾、可靠的H2S濃度測量輸出并無任何耗材。

氯堿工藝是用于電解氯化鈉的一種工業工藝。它是用于生產氯和氫氧化鈉（堿/燒堿）的方法，這兩種物質都是工業上*的常用化學品。 EDK 6900P-Cl便攜式Cl2分析儀基于非色散紫外吸收光譜NDUV技術來對氫氣中Cl2進行分析。NDUV非色散紫外吸收光譜技術是確定復雜氣體混合物中濃度的一種普遍方法。該氣體分析儀使用了現代光學元件來對分析儀的結果進行了優化。